Company History

1997

Co-fundado por propriedade mista
(Instituição de Pesquisa em Metalurgia/Fundição/Setor Privado)
Criação da Divisão de Materiais de Alta Pureza
1999

Antimônio/Telúrio/Cádmio/CZT 5N-7N para EUA
2001

Certificado ISO9001:2000
Criação da divisão de semicondutores de silício e compostos
Bolacha de silício 2"-6" para EUA/Coreia do Sul/UE/Taiwan
FZ NTD wafer suporta com sucesso a fabricação de dispositivos de energia
2002

Telúrio/Cádmio/Enxofre 5N-7N para Japão/França/Canadá
Divisão de materiais avançados criada
Fundição de carboneto de tungstênio/pó de RTP para a UE/Japão/Coreia do Sul/EUA
2003

Divisão Chem-Met criada
Óxidos de Terras Raras/Metal para Inglaterra/Rússia/Japão
Atualização tecnológica de óxidos Bi2O3/TeO2/ In2O3/ Co2O3/ Sb2O3 4N 5N pureza Li2Co3 99,99% para Canadá, Japão, EUA
2007

Análise feita pelo instrumento GDMS introduzido dos EUA
Substrato GaAs para Alemanha/Israel
Arsênico/Zinco/Telúrio/Cádmio/CZT 6N 7N para França/Coreia/Israel
2013

Certificado ISO9001:2008
InSb/InP/GaSb para o mercado Japão/Alemanha/EUA
2015

Reorganizado para Western Minetals (SC) Corporation
Certificado ISO9001:2015
Divisão de Marketing Internacional criada para sourcing de negócios da China
2016

Operação de subsidência de compostos metálicos
CdMnTe/SIN/AlN Disc/lump para Alemanha/EUA
2018

Semicondutor composto avançado SiC/GaN 3G concluído em nossas instalações
Expansão de capacidade de antimônio 5N-7N para dopagem/liga de alta pureza/compostos
Presente