Bolacha de Silício FZ NTD

Descrição

Bolacha de Silício FZ-NTD, conhecido como Float-Zone Neutron Transmutation Neutron Wafer.Silício livre de oxigênio, de alta pureza e alta resistividade pode ser obtido by Crescimento de cristal de zona flutuante FZ (Zona flutuante), HO cristal de silício FZ de alta resistividade é frequentemente dopado pelo processo de dopagem de transmutação de nêutrons (NTD), no qual a irradiação de nêutrons em silício de zona flutuante não dopado para fazer isótopos de silício presos com nêutrons e depois decair nos dopantes desejados para atingir o objetivo de dopagem.Através do ajuste do nível de radiação de nêutrons, a resistividade pode ser alterada sem a introdução de contaminantes externos e, portanto, garantindo a pureza do material.As pastilhas de silício FZ NTD (Silício de Dopagem de Transmutação de Nêutrons de Zona Flutuante) têm propriedades técnicas premium de concentração de dopagem uniforme e distribuição uniforme de resistividade radial, níveis mais baixos de impureza,e alto tempo de vida do portador minoritário.

Entrega

Como fornecedor líder de mercado de silício NTD para aplicações de energia promissoras e seguindo as crescentes demandas por wafers de alto nível de qualidade, o wafer de silício NTD FZ superiorna Western Minmetals (SC) Corporation pode ser oferecido aos nossos clientes em todo o mundo em vários tamanhos que variam de 2″, 3″, 4″, 5″ e 6″ de diâmetro (50mm, 75mm, 100mm, 125mm e 150mm) e ampla faixa de resistividade 5 a 2000 ohm.cm nas orientações <1-1-1>, <1-1-0>, <1-0-0> com acabamento de superfície como cortado, lapidado, gravado e polido em embalagem de caixa de espuma ou cassete , ou como especificação personalizada para a solução perfeita.